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产物中心
产物分类CLASSIFICATION
氮化铝陶瓷烧结炉适用范围： 专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿公司对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机 械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行 烧结﹑融化﹑分析、生产而研制的设备
氮化铝陶瓷排胶炉适用范围：氧化锆、氧化铝、电子陶瓷、多孔陶瓷、陶瓷插芯、催化剂等电子陶瓷元件、磁性材料、压敏电阻器件产物排胶、脱蜡、烘干、焙烧、固化等工艺。
1200度脱脂炉适用范围: 氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用五方加热方式，采用热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性。
1200度排蜡炉适用范围: 氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用五方加热方式，采用 热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性。
1200度脱蜡炉适用范围: 氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用五方加热方式，采用热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性。
1200度排胶炉适用范围: 氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用五方加热方式，采用热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性。
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