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陶瓷排胶预烧炉适用范围: 氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用硅碳棒加热，采用热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性
氧化铝排胶烧结一体炉 →炉门开启，自动停止加热，有效保护发热元件及炉膛使用寿命 →采用进口1800型硅钼棒为加热元件，长期在高温作业下，不掉渣、不生锈、 而且表面越来越光亮。 →炉膛材料全部炉衬使用采用真空成型高纯氧化铝纤维聚轻板材料，使用温度高，蓄热量小，耐急热急冷、不裂缝、不掉渣、保温性能好（节能效果是老式电炉的60%以上）。
高温陶瓷加热炉适用范围: 氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用硅碳棒加热，采用热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性
鑫宝供应 实验排胶炉 提供产物试烧 氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性。
1200度箱式排胶炉适用范围: 氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用五方加热方式，采用热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性。
五方加热排胶炉适用范围: 氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、 磁性材料、LTCC，MLCC，NTC，NFC，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用五方加热方式，采用的热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性。
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