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1200度排胶炉适用范围:
氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化锆、介质陶瓷和精细陶瓷元件的脱脂和预烧结一体化工艺，也可以用于陶瓷粉体材料、
磁性材料、尝罢颁颁，惭尝颁颁，狈罢颁，狈贵颁，陶瓷芯等其他电子元器件的排胶、预烧和烧结工艺，采用五方加热方式，采用热场控制方式使得低温排胶和高温预烧的温场均匀性好，保证了排胶和烧结两个工艺段所需要的温场均匀性。